中科院半导体所莅临YO米直播NBA最新消息 交流用于先进制程退火工艺

2025.8.26日，中国科学院半导体研究所何力博士到访我司，交流用于先进制程退火工艺。分享了通过退火开展半导体材料超固溶度掺杂研究，为先进制程晶体管、光电子材料及器件制备等提供有效支撑。

随着半导体制造工艺进入14纳米及以下技术节点，传统退火技术已难以满足“毫秒级升至1200℃”的苛刻要求。激光退火（Laser Annealing）与闪光灯退火（Flash Lamp Annealing, FLA）因其快速、低温预算、高效掺杂激活等优势，成为先进制程的关键工艺装备。

然而，该类设备长期被国外企业垄断，并对中国实施严格禁运，成为制约我国半导体产业发展的“卡脖子”环节。在此背景下，何力博士团队自主研发的闪光灯退火样机成功实现脉冲宽度8毫秒、样品尺寸2×2厘米的闪光退火实验，初步验证了国产FLA设备的可行性。

YO米直播NBA最新消息 作为在半导体工艺与检测装备领域具有深厚技术积累的创新企业，高度重视与中科院半导体所的合作机会。公司表示，将积极发挥其在设备工程化、系统集成、市场转化等方面的优势，共同推动闪光灯退火技术的产业化落地，助力打破国外技术垄断。

此次交流不仅是一次技术汇报，更是“产-学-研”协同创新模式的生动实践。双方将继续深化合作，加速推进国产FLA装备的研发与应用，为我国半导体产业链自主可控与战略安全提供坚实支撑。